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암묵적 모델링
도형, 래티스, 점 구름, 필드, 오프셋, 부울, 반전, 다듬기, 모핑 및 필렛을 사용하여 암묵적 모델을 만듭니다.
사용자 정의 UV 그리드로 래티스 맞추기
기존 표면 매개변수화를 변환하거나, 래티스 단위 셀의 간격/레이아웃/위치를 완벽하게 제어하여 새 표면 매개변수화를 생성함으로써 래티스 좌표 공간을 대상 표면에 보다 쉽게 매핑할 수 있습니다.

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Inspire 릴리스 노트
Inspire의 새로운 기능과 향상된 기능을 살펴봅니다.
시작
Inspire를 처음 사용합니까? 여기에서 기본 사항을 배우십시오.
튜토리얼
대화식 튜토리얼에 따라 Inspire를 사용하십시오.
변수
모델을 매개변수화할 변수를 생성하고 할당합니다. 이렇게 하면 변수 값을 조정하여 디자인 컨셉을 신속하게 반복하고 비교할 수 있습니다.
파라메트릭 모델링
컨스트럭션 이력 및 변수를 사용하여 파라메트릭 스케치, 지오메트리 및 PolyNURBS를 생성합니다.
암묵적 모델링
도형, 래티스, 점 구름, 필드, 오프셋, 부울, 반전, 다듬기, 모핑 및 필렛을 사용하여 암묵적 모델을 만듭니다.
- Inspire 암묵적 모델링 개요
  Inspire의 암묵적 모델링과 그 이점에 대한 개요입니다.
- 암묵적 모델링을 위한 시각화 품질 및 메쉬 설정
  Inspire Implicit Modeling을 사용한 작업 시 시각화 품질 및 메쉬 설정을 사용하여 계산 시간, 시각적 외형, 암묵적 및 메쉬 지오메트리의 기하학적 정확도를 관리하는 방법에 대해 알아보십시오. 여기에는 Implicit Modeling 작업, Implicit Modeling에서 다른 지오메트리 형식 변환, 그리고 내보내기 또는 기타 다운스트림 프로세스를 위한 암묵적 지오메트리 메쉬 생성이 포함됩니다.
- 암묵적 바디의 필드 보기
  암묵적 바디의 기본 필드를 시각화합니다.
- 암묵적 도형 만들기
  반복적인 작업에 사용하거나 더 복잡한 형상으로 결합할 수 있는 간단한 기하학적 형상을 만듭니다. 암묵적 도형에는 직육면체, 원통 및 구가 포함됩니다.
- 사용자 정의 UV 그리드로 래티스 맞추기
  기존 표면 매개변수화를 변환하거나, 래티스 단위 셀의 간격/레이아웃/위치를 완벽하게 제어하여 새 표면 매개변수화를 생성함으로써 래티스 좌표 공간을 대상 표면에 보다 쉽게 매핑할 수 있습니다.
- 암묵적 표면 래티스 만들기
  하나, 또는 때로는 두 개의 표면으로 구성된 셀룰러 스트럭쳐인 표면 래티스로 바디를 채웁니다. 바디는 Parasolid, STL, PolyNURBS 또는 암묵적 지오메트리일 수 있습니다.
- 암묵적 평면 래티스 만들기
  3차원을 따라 그려지거나 돌출되는 명확히 정의된 2D 단면이 있는 2.5D 셀룰러 스트럭쳐인 평면 래티스로 암묵적 바디를 채웁니다.
- 사용자 정의 평면 단위 셀 생성
  평면 래티스 단위 셀로 사용할 2D 면에서 사용자 정의 엣지 및 점의 집합을 정의합니다.
- 암묵적 스트럿 래티스 만들기
  빔으로 연결된 노드에서 구축된 스트럿 래티스를 사용하여 암묵적 바디를 채웁니다.
- 사용자 정의 스트럿 단위 셀 만들기
  스트럿 격자 단위 셀로 사용할 정규화된 큐브에서 사용자 정의 엣지 및 점 집합을 정의합니다.
- 암묵적 확률적 래티스
  점, 점 사이의 엣지, 특정 점 및/또는 엣지를 제거하기 위한 필터, 엣지를 스트럿으로 두껍게 만드는 방법, 래티스를 외부 바디 또는 쉘과 결합하는 등과 같은 외부 바디 처리를 정의하여 무작위 스트럿 래티스를 생성합니다.
- 암묵적 표면 천공 만들기
  스트럿 세트를 생성하여 암묵적 바디에 구멍을 뚫거나 바디에 결합하여 핀을 만듭니다.
- 컨포멀 좌표 공간 생성
  컨포멀 좌표 공간을 구성하여 바디에 맞는 암묵적 패턴과 래티스를 생성합니다.
- 암묵적 모델링의 포인트 클라우드
  필드를 구동하거나 암묵적 지오메트리를 생성하려면 포인트 클라우드를 가져오거나 포인트 클라우드를 새로 생성할 수 있습니다.
- 필드에서의 사고 - 암묵적 모델링을 위한 입문서
  필드 기반 디자인 측면에서 직관적으로 사고할 수 있도록 도움을 주는 비디오 및 예시와 함께 Inspire 내의 암묵적 모델링에서 필드가 사용되는 방법에 대한 자세한 설명입니다.
- 점-엣지 세트 - 래티스 및 기타 트러스 스트럭쳐의 고급 디자인
  Inspire 내에서 암묵적 모델링에 점-엣지 세트를 사용하는 방법에 대한 자세한 설명입니다.
- 암묵적 모델링을 위한 필드 생성
  필드를 생성하여 지오메트리를 정의하거나 필드 경계 내의 모든 위치에서 기존 지오메트리의 매개변수를 제어합니다.
- 해석 결과에서 암묵적 필드 만들기
  해석 실행 또는 가져온 H3D 파일의 결과에서 직접 암묵적 필드를 생성합니다. 필드 만들기 버튼은 해석 결과 탐색기 하단에 있습니다.
- 암묵적 중간면 생성
  2개의 암묵적 바디 사이에 있는 하나 이상의 표면 또는 볼륨을 생성합니다. 이 기능은 두 파트/표면 사이에 필드 기반 효과를 생성하거나 두 파트 또는 표면 사이에 균일한 간격으로 표면을 생성할 때 유용합니다.
- 암묵적 뒤틀기 맵 생성
  두 개의 연결된 UV 그리드를 통해 뒤틀기를 지정하여 2D 객체를 3D 좌표에 매핑합니다. 한 그리드는 2D 객체(예: 가져온 이미지, 3D 암묵적 바디의 슬라이스)의 UV 매개변수화를 정의하고, 다른 그리드는 3D 공간에서 해당 위치를 정의합니다.
- 암묵적 모델링에서 이미지 데이터 사용
  암묵적 모델링 워크플로우에서 사용하기 위해 이미지 파일에서 데이터를 가져옵니다.
- 암묵적 지오메트리로 변환
  파트, 표면 및 곡선을 암묵적 객체로 변환합니다. CAD, PolyNURBS, 메쉬 또는 최적화된 파트, 표면 또는 곡선을 선택할 수 있습니다.
- 암묵적 지오메트리 이동
  암묵적 바디를 평행이동하고 회전합니다.
- 암묵적 지오메트리 결합
  2개의 암묵적 바디를 하나로 결합합니다.
- 암묵적 지오메트리 빼기
  다른 암묵적 바디("대상")에서 암묵적 바디("도구")를 잘라냅니다.
- 암묵적 지오메트리 교차
  두 암묵적 바디 세트의 교차 부분만 유지합니다.
- 암묵적 지오메트리 오프셋
  암묵적 바디를 오프셋합니다. 오프셋을 중공 쉘로 만들 수 있습니다.
- 암묵적 지오메트리 반전
  기본 필드에서 모든 스칼라 값의 부호를 반전하여 암묵적 바디의 "내부" 및 "외부"를 바꿉니다.
- 암묵적 지오메트리 패턴화
  직사각형, 원형, 컨포멀 또는 포인트 클라우드 패턴의 암묵적 바디를 생성합니다.
- 암묵적 지오메트리 미러링
  대칭 평면에 걸쳐 암묵적 바디를 미러링합니다.
- 암묵적 지오메트리 모핑
  하나의 암묵적 바디를 다른 바디로 변형하거나 그 반대로 변형합니다. 물리적으로 분리된 바디는 유의한 결과를 생성하지 못할 수 있습니다.
- 암묵적 지오메트리 다듬기
  암묵적 모델링에서 생성된 객체의 노이즈를 제거하는 데 사용됩니다. 암묵적 바디에서 원치 않는 작고 선명한 피처의 크기를 줄이거나 제거합니다.
- 암묵적 지오메트리 필렛
  암묵적 바디를 곡면으로 만들어서 일정 반경 또는 가변 반경을 가진 필렛을 만듭니다.
- 암묵적 바디 다시 매핑
  스칼라 값의 일반 필드를 부호화된 거리 필드로 다시 매핑합니다.
- 암묵적 지오메트리 평면 절단
  정의된 평면의 양쪽에서 또는 정의된 평면에서 암묵적 지오메트리를 유지합니다.
- 슬라이스 데이터 내보내기
  메싱 없이 기본 암묵적 모델을 슬라이스하려면 암묵적 파트를 슬라이스 파일(.cli 및 .3mf)로 내보냅니다.
- 등위면 암묵적 필드
  암묵적 바디 또는 필드에서 등위면을 추출합니다.
스트럭쳐
모델을 설정하고 스트럭쳐 해석 또는 최적화를 실행합니다.
모션
Inspire Motion 시스템 내에서 상호 연결된 강체 또는 유연체의 동작, 동역학 및 상호작용을 해석하는 MBS(다체 시뮬레이션) 기능을 제공합니다.
유체
컴퓨터의 유체 역학 시뮬레이션을 준비하고 실행합니다.
디자인 탐색기
기하학적 변수를 사용하고 실험 디자인(DOE) 또는 최적화 방법을 적용하여 디자인을 평가합니다. 설계 탐색에 스케치 변수를 사용하는 경우, 스케치를 완전히 구속하도록 권장합니다.
제조(T)
기본 다공성 또는 두께 변화율 해석을 설정하고 실행합니다.
3D 인쇄
적층 가공 시뮬레이션을 준비 및 실행하고 3D 인쇄용 파일을 내보냅니다.
렌더링
장면에 있는 객체의 재질과 환경을 조정하여 사실적인 이미지를 만듭니다.
Inspire Python API
온라인 도움말, 빠른 시작 데모 및 확장 관리자를 포함하여 Inspire Python API에 액세스하는 방법을 알아보십시오.
참조
용어집, 자주 물어오는 질문, 오류 및 경보를 확인하십시오.
키보드 단축키 및 마우스 제어기
일반적인 작업을 위한 키보드 단축키 및 마우스 제어기에 대해 배웁니다.

사용자 정의 UV 그리드로 래티스 맞추기

기존 표면 매개변수화를 변환하거나, 래티스 단위 셀의 간격/레이아웃/위치를 완벽하게 제어하여 새 표면 매개변수화를 생성함으로써 래티스 좌표 공간을 대상 표면에 보다 쉽게 매핑할 수 있습니다.

암묵적 모델링 리본에서 맞춤 도구를 선택합니다.

팁: 도구를 찾아서 열려면 Ctrl+F를 누릅니다. 자세한 내용은 도구 찾기 및 검색을 참조하십시오.
옵션: 시각화 품질의 경우 낮음~매우 높음 요소 밀도에 해당하는 낮음~매우 높음 품질을 선택합니다. 품질이 높을수록 더 선명한 지오메트리 피처가 생성되지만 많은 계산을 필요로 합니다. 복잡한 기능을 만들 때는 낮은 품질로 작업한 후 기능이 완성되면 높은 품질로 전환하는 것이 좋습니다.

가이드 패널에서 곡선, 표면 또는 볼륨 탭을 선택합니다.

곡선


옵션	설명
곡선	곡선 수집기를 사용하여 컨포멀 공간의 U 매개변수화로 사용할 곡선 또는 엣지를 선택합니다.
반전 U	이 확인란을 선택하여 U 매개변수의 범위를 1-0 또는 0-1 사이에서 뒤집습니다.
U 디비전	선택한 곡선을 분할할 세그먼트의 수를 입력합니다.

표면


옵션	설명
수동 그리드	이 확인란을 선택하여 현재 그리드를 편집 가능한 그리드로 변환합니다.
유형	버튼을 선택하여 선택한 표면, 선택한 U 및 V 곡선 또는 선택한 두 곡선 사이를 기준으로 컨포멀 공간을 매개변수화합니다.
표면	표면 유형을 선택한 경우 표면 수집기를 사용하여 컨포멀 공간에서 U 및 V 매개변수화에 사용할 표면을 선택합니다. U가 V 방향을 따르고 V가 U 방향을 따르도록 UV 매개변수를 반전하려면 UV 뒤집기를 선택합니다. U 매개변수의 범위를 1-0 또는 0-1 사이에서 뒤집으려면 반전 U를 선택합니다. V 매개변수의 범위를 1-0 또는 0-1 사이에서 뒤집으려면 반전 V를 선택합니다.
곡선에서	두 개의 곡선 유형을 선택한 경우 U 곡선 및 V 곡선 수집기를 사용하여 컨포멀 공간의 매개변수화에 사용할 곡선 또는 엣지를 선택합니다. U 매개변수의 범위를 1-0 또는 0-1 사이에서 뒤집으려면 반전 U를 선택합니다. V 매개변수의 범위를 1-0 또는 0-1 사이에서 뒤집으려면 반전 V를 선택합니다.
곡선 사이	곡선 사이 유형을 선택한 경우 시작 곡선 및 끝 곡선 수집기를 사용하여 컨포멀 공간의 매개변수화에 사용할 곡선 또는 엣지를 선택합니다. 시작 곡선의 방향을 뒤집으려면 시작 곡선 반전을 선택합니다. 끝 곡선의 방향을 뒤집으려면 끝 곡선 반전을 선택합니다.
U 디비전 V 디비전	선택한 각 곡선을 분할할 세그먼트의 수를 입력합니다.

볼륨


옵션	설명
유형	버튼을 선택하여 2개의 표면, 1개의 표면과 1개의 곡선 또는 U V W 곡선을 기준으로 컨포멀 공간을 매개변수화합니다.
2개의 표면	2개의 표면 유형을 선택한 경우 표면 수집기를 사용하여 컨포멀 공간의 매개변수화에 사용할 시작 표면과 끝 표면을 선택합니다. U가 V 방향을 따르고 V가 U 방향을 따르도록 UV 매개변수를 반전하려면 UV 뒤집기를 선택합니다. U 매개변수의 범위를 1-0 또는 0-1 사이에서 뒤집으려면 반전 U를 선택합니다. V 매개변수의 범위를 1-0 또는 0-1 사이에서 뒤집으려면 반전 V를 선택합니다.
면 + 곡선	표면 + 곡선 유형을 선택한 경우 표면 및 W 곡선 수집기를 사용하여 컨포멀 공간의 매개변수화에 사용할 표면과 곡선 또는 엣지를 선택합니다. U가 V 방향을 따르고 V가 U 방향을 따르도록 UV 매개변수를 반전하려면 UV 뒤집기를 선택합니다. U 매개변수의 범위를 1-0 또는 0-1 사이에서 뒤집으려면 반전 U를 선택합니다. V 매개변수의 범위를 1-0 또는 0-1 사이에서 뒤집으려면 반전 V를 선택합니다. W 매개변수의 범위를 1-0 또는 0-1 사이에서 뒤집으려면 반전 W를 선택합니다.
곡선	곡선 유형을 선택한 경우 U 곡선, V 곡선 및 W 곡선 수집기를 사용하여 컨포멀 공간의 매개변수화에 사용할 곡선 또는 엣지를 선택합니다. 곡선의 방향을 뒤집으려면 반전 U, 반전 V 또는 반전 W를 선택합니다.
U 디비전 V 디비전 W 디비전	선택한 각 곡선을 분할할 세그먼트의 수를 입력합니다.